可檢測基體

鐵基(ji)(ji)(ji)(ji)、銅(tong)基(ji)(ji)(ji)(ji)、鋁基(ji)(ji)(ji)(ji)、鎳(nie)基(ji)(ji)(ji)(ji)、鈷基(ji)(ji)(ji)(ji)、鎂(mei)基(ji)(ji)(ji)(ji)、鈦基(ji)(ji)(ji)(ji)、鋅基(ji)(ji)(ji)(ji)、鉛基(ji)(ji)(ji)(ji)、錫基(ji)(ji)(ji)(ji)、銀基(ji)(ji)(ji)(ji)。

光學系統

帕(pa)型-龍格 羅蘭圓全譜真(zhen)空(kong)型光學系統

波長范圍

140~680nm

光柵焦距

401mm

探 測 器

高性(xing)能CMOS陣(zhen)列(lie)/CCD陣(zhen)列(lie)

光源類型

數字(zi)光源，高能(neng)預燃技術（HEPS）

放電頻率

100-1000Hz

放電電流

大500A

工作電源

AC220V 50/60Hz 1200W

儀器尺寸

780*565*360mm

儀器重量

約80kg

檢測時間

依據樣品類型而定，一般(ban)20S左右

電極類型

鎢材噴射電極

分析間隙

4mm

其他功能

真(zhen)空(kong)，溫度，軟件(jian)自動控 壓(ya)力(li)，通(tong)訊監測

采(cai)用(yong)高精度的CMOS元件可準確測定非金屬(shu)元素如(ru)C、P、S、As、B、N以(yi)及各種金屬(shu)元素含量；

測定(ding)結果準(zhun)確，重復性及長期穩(wen)定(ding)性好。

自動光路校準

自動(dong)光路校準，光學(xue)系統自動(dong)進行譜線(xian)掃描(miao)，確保接(jie)收的(de)正確性，免除繁(fan)瑣的(de)波峰(feng)掃描(miao)工作；

儀器自動識(shi)別特定譜線(xian)與原存儲線(xian)進行對(dui)比，確定漂移位(wei)置，找(zhao)出分析線(xian)當前的(de)像素位(wei)置進行測定。

插拔式透鏡設計

真(zhen)空(kong)(kong)光學(xue)系統采(cai)用*的入射窗與真(zhen)空(kong)(kong)隔(ge)離(li)，可在真(zhen)空(kong)(kong)系統工(gong)作(zuo)(zuo)狀態(tai)下進行操作(zuo)(zuo)，光學(xue)透鏡采(cai)用插拔式(shi)透鏡結構(gou)，日常清洗(xi)維護(hu)方便快捷。

真空室一體化

*的光室(shi)結構設計，使真空室(shi)容積更小，抽(chou)真空時(shi)間僅普(pu)通光譜(pu)儀的1/2；

真空室一(yi)體化設(she)計及高(gao)精密(mi)的加工，使真空保持(chi)的更加持(chi)久。

真空防返油技術

多(duo)級隔離的(de)真(zhen)空防返油(you)技術(shu)，采用真(zhen)空壓差(cha)閥門保證真(zhen)空泵不(bu)工作時(shi)真(zhen)空光室與真(zhen)空*隔離

中間增加了(le)真空(kong)濾(lv)油裝置，確保真空(kong)泵(beng)中油不進入真空(kong)室(shi)，保障CMOS檢測器及光(guang)學元件(jian)在可靠環境中工(gong)作。

開放式激發臺

開放式(shi)激發臺(tai)機靈(ling)活的樣品夾設計，以滿足客戶(hu)現場的各種形(xing)狀大小的樣品分析；

配合使用小樣品(pin)夾具，線材低分析可(ke)達到3mm。

噴射電極技術

采用*的噴射電(dian)極(ji)技術，使用鎢材料電(dian)極(ji)，在激發(fa)(fa)狀態下，電(dian)極(ji)周(zhou)圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fa)(fa)過程中激發(fa)(fa)點周(zhou)圍不(bu)會與外界空氣接觸，提高激發(fa)(fa)精度

配上*氬氣氣路設(she)計，大大降低了氬氣使用量，也(ye)降低客戶使用成(cheng)本(ben)。

集成氣路模塊

氣路系統采(cai)用(yong)氣路模塊免維護設計，替代(dai)電磁閥和(he)流(liu)量計，電極自(zi)吹(chui)掃功能，為激發創造了良好的(de)環境(jing)。

數字化激發光源

數字激發光(guang)源(yuan)，采用(yong)等離子激發光(guang)源(yuan)，超穩定能量(liang)釋放(fang)在氬氣環境中激發樣品(pin)；

全數字(zi)激(ji)發脈沖，確保激(ji)發樣(yang)品等離子體超高分辨率和高穩定率輸出；

可(ke)任(ren)意調節光(guang)源的各項參數(shu)，滿足各種不同(tong)材料的激(ji)發要求。

高速數據采集

儀(yi)器(qi)采用高性能CMOS檢測元件，具(ju)有每塊CMOS單(dan)獨超高速數據采集分(fen)析功能，并能自動實時監測控制光(guang)室溫度、真空(kong)度、氬氣壓力、光(guang)源(yuan)、激發室等模(mo)塊的運行狀態(tai)。

以太數據傳輸

計算機(ji)(ji)和(he)光譜儀之間使(shi)用(yong)以太網卡(ka)和(he)TCP/IP協議，避免電磁干擾，光纖老化(hua)的弊端(duan)，同時計算機(ji)(ji)和(he)打印機(ji)(ji)*外置，方(fang)便升級和(he)更(geng)換；

可(ke)以(yi)遠程監(jian)控(kong)儀(yi)器狀態，多通路操控(kong)系統控(kong)制和監(jian)控(kong)所(suo)有的儀(yi)器參數。

預制工作曲線

備有不同材質和牌號(hao)的(de)標樣庫，儀器出(chu)廠時工廠預制工作曲線，方便安(an)裝調(diao)試和及時投入生(sheng)產；

根(gen)據元素和材質對應(ying)的(de)分(fen)析(xi)程序而稍有差異，激發和測試參數(shu)儀(yi)器出廠時已經調(diao)節好，根(gen)據分(fen)析(xi)程序可自動選擇合適的(de)測試條件；

技術(shu)規格中附有分析范圍(wei)（并可根(gen)據用戶提(ti)供標樣(yang)免費繪(hui)制或延(yan)長工作曲(qu)線）。

分析速度快

分析速(su)度快，僅(jin)需20秒即可完成一次分析；

針對(dui)不同的分(fen)析材料，通過設置預燃時間(jian)及(ji)測量(liang)時間(jian)，使儀(yi)器用(yong)短時間(jian)達到良好的分(fen)析效果。

多基體分析

光路設(she)計采用(yong)羅蘭圓結構，檢測器上(shang)下交替排(pai)列，保證接(jie)收(shou)全(quan)部的譜線，不(bu)增(zeng)加硬件設(she)施(shi)，即可實(shi)現多基體分析(xi)；

便(bian)于根據生產的需要增加(jia)基體及材料(liao)種(zhong)類和分析元(yuan)素（無硬件成本）。

軟件中英文系統

儀器(qi)操作軟件*兼容于Windows7/8/10系統；

軟件操(cao)作簡單，即使沒有任何(he)光譜儀知識(shi)及(ji)操(cao)作經(jing)驗的人員只需經(jing)過簡單的知識(shi)培訓即可上(shang)手使用。